今天我們一起走進全球3D打印巨頭德國德國Nanoscribe。
德國Nanoscribe創(chuàng)立于2007年，依托卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的的技術力量和德國卡爾蔡司 的資金支持，該公司迅速成為了高精度雙光子微納加工系統(tǒng)制導領域的佼佼者。發(fā)展至今，發(fā)展至今Nanoscribe的創(chuàng)新技術核產品被廣泛應用于生物打印、微流水芯片、微光學 、微機器、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等領域。
例如，創(chuàng)新的雙光子聚合2PP能夠在高速打印同時實現(xiàn)更高的打印質量，具有亞微米級的分辨率和全自動化的打印流程，并擴展了微流控 應用的可能性。30μm的自由女神像就是由該技術打印而成。
2023年時，Nanoscribe又在雙光子驅和2PP技術的基礎上，開發(fā)出雙光子灰度光刻 (2GL 3D)微加工技術，其原理是借助激光束與高速振鏡 高頻同步精細調控單體素作為迭代技術，具備更高的分辨率，融合專利體素調整工藝，大幅削減打印層數(shù)。
去年，去年該公司在全球光通信領域的頂級會議歐洲光通信會議 (ECOC) 上折桂，其全新重磅產品Quantum x3D 打印機榮獲“芯片級封裝/光學子組件”行業(yè)獎，該設備專為光學級2D和2.5D微納米結構增材制造設計，具備高精、高速、廣應用的特點，在打印時，可依靠激光功率實時動態(tài)調整高度掃描，讓聚合體素尺寸精準匹配3D形狀輪廓，還能在打印場邊界動態(tài)調控激光劑量，補償光敏聚合物收縮與定位缺陷。
同時，該設備還與硅、磷化銦和玻璃等材料兼容，并配備了該公司獨創(chuàng)的光學元件---微學打印的優(yōu)化技術，高精度定位組件與自校準程序，保障拼接相應打印區(qū)域時精度出色，自動傾斜補償功能避免傾斜襯底，出現(xiàn)拼接縫隙或階梯效應，為光子學封裝和集成提供了高效光耦合的方案。
此外，該設備是市場上最快的基于2PP的微加工裝置，動態(tài)體素調整使打印光學級光滑納米結果表面所需層數(shù)銳減，在滿足高質量光學質量表面與高形狀精度打印的同時，其存儲量最高可達同一產品的10倍至60倍。
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目前該產品已廣泛應用在硅片3D加工、光纖端面加工、硅光芯片 3D加工多個高尖領域。
可就是這么一家推動了自由空間，微光耦合工業(yè)化的頂尖3D打印公司，目前Nanoscribe已被德國硬煤采礦業(yè)基金會RAG旗下專注納米及硅加工技術領域的LAB14公司接管，這個RAG和LAB14也是大有來頭！
